来源:EngineeringForLife
目前3D打印的快速发展已经彻底改变了机械/声学超材料、生物材料和能源/环境应用结构的制造。其中,光固化打印更是凭借其高特征分辨率,较快的制造速度,较大的制造尺寸等优势,在高分辨率和复杂几何的产品制造领域起到重要作用。然而,现有的光固化仍然存在一些问题,现有光固化打印的成像依赖于单孔径成像系统,导致其必须在打印幅面和打印分辨率之间进行权衡,大大限制了光固化打印大批量生产微观结构的能力。
为解决这一问题,来自Massachusetts Institute of Technology的Nicholas X. Fang教授团队在Science advances期刊上发表了题为“Scalable 3D printing of aperiodic cellular structures by rotational stacking of integral image formation”的文章,提出了一种基于积分图像重建和微透镜阵列的积分光刻技术,以此来同时实现大幅面与高精度的光固化打印。
研究人员首先构建了一套基于微透镜阵列的光固化打印系统,不同于普通的DLP打印机,其光路系统输出的物体图像并非直接投影到打印平面上,而是先投影到一个扩散器上,在这个扩散器后设置一下微透镜阵列,这个阵列中的每一个小透镜都被视作一个物镜,负责将扩散器上的图像投影到打印平面上,因此,一个物体将会被微透镜阵列上许许多多的小透镜进行投影,会在打印平面上呈现出众多的像,由于一个物体可以在打印平面上不同位置呈多个像,因此通过调整光路系统输出的不同物体位置,便可以让不同物体在打印平面所成的像发生重叠,从而实现微小特征的构造。同时,研究人员将微透镜阵列安装于旋转平台上,从而可以实现打印平面上像的位置的旋转,从而构建出更加复杂精细的结构。
图1 用于可缩放3D打印的集成光固化打印系统。(A)集成光固化打印系统的示意图。重建的成像模式由透镜阵列(显示在麻省理工学院机械标志前)与数字显微显示器一起投影。(B至F)在逐层印刷期间,以24.75 mW/cm2的强度,以3至30 s的曝光时间,通过线性堆叠制备周期性微结构。这些多尺度结构由透镜阵列(图4标题和材料与方法中定义的透镜1)产生:(B)立方桁架微晶格(400层,聚合厚度为5至50μm),(C)微晶格的扫描电子显微照片,支撑悬吊梁直径为5μm;(D) 三周期双连续结构(60层,聚合厚度为20μm);(E) 圆形晶格微折叠(10层,聚合厚度为10μm);(F) 梯形壳型微结构,具有凹入几何形状(20层,聚合厚度为20μm)。(G至I)在逐层打印期间,通过旋转堆叠产生的具有精确可控角度偏移的非周期微结构。这些结构由透镜阵列(图4标题和材料与方法中定义的透镜2)制成:(G)具有异质子晶格的八倍准晶格和(H)相同子晶格;(一) 以2π/12角堆叠的非周期木桩晶格,具有线性角序列。照片来源:(A和B)Seok Kim,麻省理工学院。
接着,研究人员对微透镜阵列输入与输出的关系展开了进一步研究,他们分别输入了两者情况:1、输入一组图案,观察通过微透镜阵列后打印平面上光强分布;2、将1中的那组图案拆分为3个分解,并从不同位置输入,观察通过微透镜阵列后打印平面上光强分布。结果表明,两者输入会得到完全一致的光强分布,进一步证明了研究人员采取的打印系统的可行性。然后,研究人员还使用旋转平台带动微透镜阵列转动,尝试构建了许多复杂的具有手性或非周期性特征的晶格,进一步证明了其实用价值。
图2 数字控制成像图案。(A)透镜阵列和输入对象之间的几何关系产生万花筒式的交织图案。合成图像投影在透镜阵列(透镜2)的成像平面上,并由光学显微镜捕获。通过透镜阵列并行复制单个对象图像,该透镜阵列捕获对象图像并生成重复图案阵列。基于透镜阵列和单个对象图像之间的交互作用,通过多个复制图像的重叠和叠加形成万花筒式交织图案。比例尺,100μm。(B和C)压缩多投影积分成像模式:(B)相同/分解元素图像(EIs)输入对象与投影输出之间积分成像的矩阵形式。传递矩阵H由其元素hm,n确定,它们表示透镜阵列中单元透镜的脉冲响应函数。m和n分别表示水平方向和垂直方向上透镜阵列中的单元透镜数量;(C) 光学显微镜–由投影像素尺寸(LP)为50μm的数字微显示器创建的整体成像图案的捕获拓扑和横截面强度分布。根据像素距离将强度分布标准化为最大灰度值。(i和ii)同心圆光栅在通过透镜阵列的成像平面上分别具有相同EIs和三个分解EIs的积分成像图案。(D) 通过多重积分投影的具有旋转对称性的非周期格。(i)具有相同双层(角偏移:45°)的准晶格,(ii和iii)具有相同三层(角偏移:±30°)和多层(角偏移:3°)的超晶格,以及(iv)具有异质多层(角偏移:45°)的非公度莫尔晶格的破缺晶格相关对称性。这些结构使用透镜2打印。比例尺,100μm。
随后,研究人员使用该打印系统尝试了高分辨率以及大打印幅面的打印,实现了保证5微米精度的同时具有2500mm2的打印幅面,同时也使用该方法完成了1-2微米特征的构建,除此之外,研究人员还通过旋转与重复曝光,构建出了许多复杂又精细的结构,进一步彰显了该方法的强大潜力。
图3 具有小特征尺寸的可缩放印刷。(A至E)使用透镜1(f=5.5 mm,p=1 mm,有效NA为0.091,总尺寸为50×50 mm2)创建的微结构/颗粒:(A至C)周期性微结构,如纤维晶格,在高达2500 mm2的曝光面积上,最小特征尺寸为~5.3μm;(D) 柔性多臂微粒;(E) 微纹理表面。(F至K)使用透镜3(F=0.57 mm,p=0.25 mm,有效NA 0.219,总尺寸为25×25 mm2)制作的任意微图案/颗粒:(F至I)特征尺寸小于~1.6μm的阵列线和最大曝光面积为625 mm2的阵列字母MiT;(J和K)具有微孔阵列的三维微粒。所有微结构均通过使用相同EIs的积分成像图案进行打印,以24.75 mW/cm2的强度进行3到10 s的单次曝光。使用ImageJ软件对(C)和(I)中所示光学图像的线轮廓进行了定量分析。(五十) 具有(i至iv)线性或(v)非线性角序列的三维木桩晶格形成(i和ii)周期或(iii和v)非周期结构,特征尺寸在x-y平面上小于约20.5μm。根据旋转角度的不同,3D扭曲木桩晶格可以是手性结构[例如,(i)N=3,(iii)N=8]。使用透镜2打印三维木桩结构(f=5.2mm,p=0.15mm,有效NA为0.014,总尺寸为10×10mm2)。照片来源:(A、B、D和J)Seok Kim,麻省理工学院。
最后,研究人员对他们成果进行了分析与总结,对理论打印幅面与打印精度的关系进行了理论公式的推导,并将他们的系统与现在常见的光固化打印系统进行了比较,进一步展示了他们的优势。
图4 积分光刻系统的优值。PμSL方法作为面积构建尺寸(as)与可实现最小特征尺寸(R)函数的比较。虚线表示由以下数字微显示设备分组的分析比例方程:硅上液晶(LCoS)(53)、DMD(49)、微型发光二极管(LED)(54)或液晶显示器(LCD)(55)。使用PμSL(基于单孔径成像系统)的已公布结果绘制数据点,该结果显示出经验缩放依赖性。用于生成图的综合数据集如表S1所示。红点和绿圈分别代表作者获得的实验和计算结果,以确定积分光刻的潜力。连续印刷(11);体积印刷(17、18)。
文章来源:
DOI: 10.1126/sciadv.abh1200
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