IBM的3D打印机将改革芯片原型

南极熊3D打印网报道
    位于瑞士苏黎世的IBM研究院在今天公布了一款微观（microscopic）3D打印机，可以在柔软的聚合物上编写纳米级分辨率图案，随后化合物可以转化为硅，III-V(砷化镓)，或是石墨烯基板。不像电子束(e-beam)光刻技术，工程师在显微镜的观察下，这些图案可以写、可以阅读以进行实时验证。
    “与e-beam的一个很大的不同，就是你可以简单的写出3D图案，对于e-beam这是很困难的。”IBM研究员的科学家Colin Rawlings对电子工程专辑(EE Times)说，“其他一些比较大的差异，就是这种技术的成像能力——我们不仅可以写，还能进行阅读。在制作出3D图案之后，我们可以停止尖端的加热，然后将它当做原子力显微镜(AFM)来使用，以亚纳米的分辨率进行测量——让我们可以核实我们的3D图案，并轻易的对聚合物层下的结构进行定位。
    这种微观3D打印机正在授权给苏黎世公司SwissLitho AG，并命名为NanoFrazor——结合了英文单词“razor”和德文单词“frase”(意为milling machine，铣床)。NanoFrazor可以像纳米级分辨率的铣床一样运作，在很多方面都比e-beam优胜，但只需要其价格的一部分——大约50万美元，e-beam则需要至少花费150万，甚至是3000万美元。
    “NanoFrazor很适合所有应用类型的快速原型制作，”Rawlings告诉电子工程专辑(EE Times)，“它开环运行以达到每秒以毫米计算的扫描速度，并使用一个长10纳米的专门的加热尖端，安装在一个长700纳米的可弯曲悬臂上。”

    线宽精确度是10纳米，但3D的深度精确度只是1纳米，而阅读图案的测量深度则是亚纳米级精确度。IBM希望在2014年年末之前，可以在III-V(III-V族化合物)和石墨烯材料上，打通场效应晶体管(FET)，利用石印传输技术。
    “我们沉积了一个聚合物层，然后是硅层或III-V层，然后是另一个我们书写的聚合物层。”Rawlings说，“然后在书写完毕后，我们会切换到一个均匀稀释整个聚合物系统，导致生成样式的孔。然后我们会使用标准技术蚀刻聚合物，最终蚀刻以下的衬底，创造出我们可以通过在图案的孔沉积材料的掩饰中。

    据南极熊3D打印网了解，IBM还在尝试在其量子计算应用——它生成图案以控制、操控光收发器的地方，不能用传统的石印术实现——中使用其3D打印技术。它称系统的一个独特的属性是3D图案可以形成来指引光滑角落的光，从而减少光引导中的光散射问题。

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